专利申请集成电路布图设计是指:集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
我国于2001年10月1日颁布并实施《集成电路布图设计保护条例》,由国家知识产权局负责集成电路布图设计的登记申请工作。
集成电路布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。布图设计自创作完成之日起15年后,不再受《集成电路布图设计保护条例》的保护。